GONZALO ALVARO FRANCISCO JAVIER GALVEZ DE LA PUENTE

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GÁLVEZ, G. A. F.; Erlenbach, O.; GUERRA, J. A.; WEINGÄRTNER, R.(2010). Quality control and electrical properties of thin amorphous (SiC) 1-x(AlN)x films produced by radio frequency dual magnetron sputtering. En 13th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009. Trans Tech Publications. Recuperado de: https://www.scientific.net/MSF.645-648.1199

GÁLVEZ, G. A. F. J.(2010). Determination of the sputter rate variation pattern of a silicon carbide target for radio frequency magnetron sputtering using optical transmission measurements. Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology . Volumen: 174. (pp. 127 - 131). Recuperado de: http://dx.doi.org/10.1016/j.mseb.2010.03.012

GÁLVEZ, G. A. F.; GUERRA, J. A.; Erlenbach, O.; Steidl, M.; WEINGÄRTNER, R.; DE ZELA, F. A.; Winnacker, A.(2010). Determination of the sputter rate variation pattern of a silicon carbide target for radio frequency magnetron sputtering using optical transmission measurements. Materials Science and Engineering: B. Volumen: 174. (pp. 127 - 131). Recuperado de: http://dx.doi.org/10.1016/j.mseb.2010.03.012

GALVEZ, G. A. F. J.(2010). Determination of the optical bandgap of thin amorphous (SiC)1-x(AlN)x films. Materials Science Forum Vols. Volumen: 645. (pp. 263 - 266).

GÁLVEZ, G. A. F. J.(2010). Bandgap engineering of the amorphous wide bandgap semiconductor (SiC)1-x(AlN)x doped with terbium and its optical emission properties. MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-ADVANCED FUNCTIONAL SOLID-STATE MATERIALS. Volumen: 174. (pp. 114 - 118). Recuperado de: http://dx.doi.org/10.1016/j.mseb.2010.03.033

PIZARRO, C. A.; BALDWIN, G. E.; GALVEZ, G. A. F. J.(2008). Integración de las técnicas de diseño y manufactura de lentes, manufactura de óptica de precisión con las de diseño y evaloración de películas delgadas para el desarrollo de elementos ópticos..

PIZARRO, C. A.; GALVEZ, G. A. F. J.; BALDWIN, G. E.(2007). Desarrollo de un sistema de control automático del proceso de manufactura de filtros interferenciales en el atlo vacío para su uso en la industria óptica. En la manufactura de filtros interferenciales se emplea dos principales temas de conocimiento: la tecnología de vacío y el crecimiento de capas delgadas. La calidad de un filtro se basa en los materiales usados y el número de capas..

GALVEZ, G. A. F. J.(2004). Titanium dioxide thin films: Refractive index variation as a function of the deposition rate. Proc. SPIE int. Soc. opt. Eng. Volumen: 4. (pp. 14765 - 14769).